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학회·학술

치주과학회지 JPIS, 논문인용지수 2.614로 상승

국내 치의학 SCIE 저널 중 최고점수 경신.. 올해도 Q2 그룹 유지

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대한치주과학회(회장 허 익) 공식 학술지인 JPIS (Journal of Periodontal & Implant Science)의 2020년 논문인용지수(Impact Factor, IF)가 전년도의 1.472에서 2.614로 상승했다고 학회측이 밝혔다. 이는 전 세계 치과계 SCIE 등재 국제 학술지 전체 91개 논문 중 42위에 해당하는 인용지수로, 따라서 JPIS는 작년에 이어 올해도 상위 50%(Q2) 그룹에 속했다. 
Clarivate사가 지난달 30일 발표한 '2020년 논문인용지수'에 따르면 JPIS는 2014년 SCIE로 편입된 이후 처음으로 논문인용지수 2.0을 넘어섰다. 특히 JPIS에서 인용된 결과(self-citation)를 제외하더라도 2.543이라는 높은 결과를 보였는데, 이는 타저널에서 JPIS 논문을 많이 인용했다는 결과를 보여준다.
1971년 창간된 대한치주과학회지는 2010년 영문학술지인 JPIS로 체제를 바꾼 후 2014년 SCIE에 편입됐으며, 최근 5년간 논문인용지수가 지속적으로 상승하는 우수한 성과를 보이고 있다.


허익 회장<사진>은 “학회창립 61주년을 맞아 공식 학회지가 국제적으로 인정받아 매우 기쁘다"며, "학회지 발간에 힘써준 편집장, 편집이사, 편집실행이사, 편집위원들의 노고에 감사한다"고 말했다.
신승윤 편집장은 “SCIE 등재 7년만에 2점대 이상의 논문인용지수를 기록한 것은 매우 고무적이지만, 논문인용지수가 많이 상승했음에도 불구하고, 치과계 학술지 순위가 오히려 약간 하락한 것은 앞으로 상위 25% 이내로 진입하기 위해 노력해야 할 것이 많음을 뜻한다"면서 "논문의 질적 향상과 함께 출판윤리 및 국제요소 강화를 위해 보다 노력하겠다”고 각오를 다졌다.
현재 JPIS의 발행은 신승윤 편집장(경희대), 박준범 편집이사(서울성모병원), 박신영(서울대), 박정철(단국대), 김용건(경북대) 편집실행이사와 편집위원들이 담당하고 있다.